南昌箱式气氛炉订做加工 品质**

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也可以是将液氮蒸发得到的气体。氮基气氛可用于加热保护，也可以加入甲醇等使其成分接近吸热式气氛，作为渗碳时的运载气体，再加入富化气（如丙烷等）即可渗碳。它的优点是可以节约天然气、液化石油气等，碳势也可控制。氨在一定温度和催化剂作用下可完全分解为3个体积的氢和1个体积的氮，形成氨分解气。也可以把氨和空气混合进行部分燃烧，然后除水净化得到氨燃烧气（主要成分是氮）。这两种气氛都含氢，属于氢-水类型的混合气体。多用于不锈钢高速钢的热处理和粉末冶金的烧结。因氨较贵，故制备成本较高。使钢表面的碳浓度可以控制的滴注式渗碳所产生的分解气也属于可控气氛。这就是60年代初期提出的卡博马格法。其原理是：往炉中滴入两种**液体，在炉中发生热裂解，以一种液体（如甲醇）的热裂解气作为运载气体，以另一种（如醋酸乙酯）的热裂解气作为富化气体来实现钢的渗碳。
温度控制器采用微电脑PID控制模块，可实现的控温和恒温要求。炉膛材料选用真空成型氧化铝陶瓷纤维材料，新型拼装结构，发热体采用硅钼棒，可承受负荷大，控温精度高，冲温小，具有温度补偿和温度校正功能，采用进口控温仪表，具有程序功能，可设定升温曲线，一体式结构，可减少使用空间，出色的外观设计，电子元器件均采用厂家产品，带有漏电保护功能，双层水冷外壳，本机对工作过程中的**温会发出报警信号，当仪表程序设定完成后，只要按下运行按钮，双炉门设计结构，法兰密封，PTFE密封圈，可保证密封性，可在真空下工作也可通入惰性保护气体，可外接金属管道，选配大屏幕无纸记录仪，实现对升温曲线的实时记录，加热元件均匀的分布在圆形或方形氧化铝炉膛内，分布合理，温场均匀性好。

在有充分调节余量的前提下维持输出电流及电压的恒定；从而到达保护发热元件避免过大电流、电压的冲击，达到安全可靠的控制效果及控制精度。按钮:采用按钮开关使用寿命长，并且带指示灯。温度曲线设定:采用智能温度控制仪，备标准PID调节方式，无**调及无欠调的优良控制特性，具备多段程序控制功能，可实现任意斜率的升、降温控制，具有跳转（循环）、运行、暂停及停止等可编程/可操作命令，并允许在程序的控制运行中随时修改程序；采用具备曲线拟合功能的人工智能调节算法，能获得光滑平顺的曲线控制效果；为两不影响电炉的使用寿命，我们建议升温速率和降温速率为10-20℃/min，此电炉使用一段时间后，炉膛会出现微小的裂纹，这属于正常现象，不会影响使用，不建议通入腐蚀性气体，如果要通入强腐蚀性气体如S、Na等，请提前告知。

炉体上有进气口、口、抽真空口。根据要求，制成双层水冷炉壳，保护密封硅胶垫圈的同时，加快冷却速度。炉门密封采用20mm厚线切割法兰，镶嵌O型硅胶圈，不锈钢手轮锁紧。选配大屏幕无纸记录仪，实现对升温曲线的实时记录，主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。真空炉即在炉腔这一特定空间内利用真空系统（由真空泵、真空测量装置、真空阀门等元件经过精心组装而成）将炉腔内部分物质排出，使炉腔内压强小于一个标准大气压，炉腔内空间从而实现真空状态；1.采用10mm冷轧板，经过数控等设备机床精密加工而成，外表面经过高温处理，2.的风冷双层炉体结构，炉壳之间装有风机，可以快速升降温，开门方式：可180度侧开，方便在高温状态下取料；电器：采用国标电器。

安全可靠，符合国家标准。箱式气氛炉配备RS-485通讯接口，数据管理软件，具有无纸记录历史数据和升温曲线，校正温度偏离误差的功能，可以管理多台设备和远程故障诊断分析。气氛炉，炉膛尺寸除常规外，还有各种定做规格。更能贴近您的实验需要。额定温度有1100℃，1400℃，1600℃，1800℃，使用电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，型号齐全，安全可靠。同时也可为满足不同实验要求而定做。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结，玻璃的精密退火与微晶化，晶体的精密退火，陶瓷釉料制备，粉末冶金，纳米材料的烧结，金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。是科研单位，高等院校，工矿实验和生产设备。定期检查各接线头接触是否良好。根据工艺设定温度，通电加温、保温。通过调查和控制出水口温度在40℃cgh。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。