齐齐哈尔管式炉厂家 一站式服务

河南奥菲达仪器设备有限公司

AFD-1200X单温区开启式管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。内炉膛表面涂有1750℃美国进口的高温氧化铝涂层材料提高反射率及设备的加热效率和炉膛洁净度，同时延长仪器的使用寿命。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使用寿命，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备。
主要功能和特点：
一，实验室分体式管式炉外观
1.材料：采用冷轧板经过数控等设备机床精密加工而成，外表面经过高温嗍处理，外观美观大方，颜色协调。
二，实验室分体式管式炉电器元件
2.热电偶：采用国标贵金属热电偶丝作为原材料，测出温度准确，不偏离，根据选择电炉的温度而匹配热电偶，K分度（0-1200℃），S分度（0-1600℃），B分度（0-1820℃）
温控仪：采用能16段或32段PID控制温控仪，温控仪是双行LED显示表盘，主要用于控温，反应灵敏，可编程16或32段自动升温，保温，降温温度曲线，无人职守，PID控制，带有偏差，**温断电报警等功能，使任何试验或实验的一致性和再现性成为可能。具有自动恒温及时间控制功能，并附设有二级**温自动保护功能，控制可靠，使用安全
3电器：采用国标电器，移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。
4变压器：采用全隔离静音铜线变压器，噪音小。发热量少，安全系数高，（硅钼棒炉与钼丝炉配有）。
三，实验室分体式管式炉炉膛

管式炉主要功能和特点：
1.设备的控制系具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
2.可供选择：真空管式炉、气氛管式炉、普通管式炉、旋转管式炉、多工位管式炉、分体管式炉、一体管式炉、立式管式炉、卧式管式炉、单温区管式炉、双温区管式炉、三温区(多温区)管式。
炉膛高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好。
控温方式温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，30段升降温程序
密封方式不锈钢法兰挤压密封
标准配件密封法兰1套，“O”型圈4个，管堵4个，高温手套1副,坩埚钩1把
可选购附件炉架，供混气系统，低、中、高真空系统，各种刚玉坩埚，刚玉管，计算机控制软件，无纸记录仪等。
温度，炉管尺寸及炉管高温区长度可根据客户要求定制!

管式加热炉体
石英反应腔室  根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。
真空系统  根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。
质子流量供气系统  根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。
射频等离子源  根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择。
常见PECVD系统组合  1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源
AFD1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300
2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
AFD1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
AFD1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
AFD1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
AFD1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500

PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
管式电炉特点
1、控制精度：±1℃ 炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。
2、微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。
3、炉管采用刚玉99陶瓷。
4、不锈钢金属法兰密封（双胶圈）
5、炉体经精致喷塑耐腐蚀耐酸碱，炉体与炉膛隔离采用风冷炉壁温度接近室温 6、双回路保护（**温、**压、**流、段偶、断电等）
7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高
8、真空表真空度 0至负0.1Mpa
9、电炉可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）
10、温度类别：1000℃ 1400℃ 1600℃ 1700℃ 四种
11、本产品采用可靠的集成化电路，工作环境好，抗干扰